Puren-T H2O 微量水分析儀
高純氣體是集成電路、光伏、光纖等產業的重要基礎材料，在大規模集成電路芯片生產過程中，氣體中的氣態、液態和固態雜質均會對芯片質量構成重要影響。由于氣體中的微量氧和水的存在，在高溫下合成的半導體器件表面容易生成氧化膜，這是影響器件壽命和性能的重要因素。
在集成電路生產過程中，氣體中的雜質將會直接影響芯片的壽命和性能。目前，光腔衰蕩水分析儀在半導體領域中是測痕量水分的標準設備。因為它能夠及時檢測出氣體中的雜質含量是否超標，所以對半導體制程后端的產品質量提升有非常大的幫助。
一、Puren-T H2O 微量水分析儀性能規格表 微量水分析儀性能規格表
Puren-T H2O 微量水分析儀性 能電 子 參 數
適用氣體 多數有毒的、不活躍性氣體 檢測范圍 詳見技術參數表 測量下限 詳見技術參數表
靈敏度 ±0.75%或 1/3LDL 氣路 準確度 ±3% 系
統 響應速度 <1minute to 90% 和
報警指示 系統報警 條件 用戶可編程報警
供電要求 100-240VAC，50/60Hz 功率 20W(MAX)
用戶界面 7 寸液晶顯示屏
4-20mA輸出
Puren-T H2O 微量水分析儀測量下限
200ppt 200ppt 130ppt 150ppt 100ppt
10°C~40°C -10°C-40°C 316L 不銹鋼 Ra0.25 表面光潔 1/4 VCR 外螺紋接口 <1×10-9mbar l/sec 0.2-0.8MPa
1.5slm
*高 60°C N2 or He,1/8 外螺紋卡套接頭
600mm×200mm×200mm 10Kg
靈敏度
100ppt 70ppt 45ppt 50ppt 20ppt
信號輸出 自適應網絡 RS-232 串行通信
二、Puren-T H2O 微量水分析儀技術參數表 被檢氣和背景氣 測量范圍
H2O in N2 0-20ppm H2O in H2 0-16ppm H2O in Ar 0-9ppm H2O in O2 0-10ppm H2O in He 0.4ppm
Puren-T H2O 微量水分析儀應用非常廣泛，不僅有來自半導體產業、液晶平板顯示器(LCD)、光電子器件(LED)制造業、太陽能光伏產業等領域的終端客戶，也有一些上游的氣體制造商，比如華特氣體、金宏氣體等。
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