日本液空PPB級微量氧分析儀在半導體痕量氧測試中的應用
應用 ●工業氣體中氧濃度的測量?空分裝置的氣體純度監測和控制?產品氣體的氣體純度監測 ?氣體凈化器的驗證 ●不同工藝的氧濃度測量 ?覆蓋氣體的氧氣監測和控制 ●熱處理爐氧濃度的監測和控制
反應堆 使用前注意事項 ●務必使用不銹鋼管或銅管作為取樣管線。 ●樣品氣體入口壓力必須在49至294kPa(G)之間。?如果壓力低于49kPa(G),則使用泵。 ?如果壓力高于294kPa(G),則使用調節器。 ●灰塵和濕氣日本液空PPB級微量氧分析儀在半導體痕量氧測試中的應用 ?灰塵不得超過5μm。 ?水分露點必須低于-10℃。 ●確保分析儀出口處的廢氣在大氣壓力下獨立排放。 氣體出口管線中的壓降或背壓應小于±980Pa(G)。 ●不相容氣體(對測量產生不利影響的氣體) ?酸性氣體、鹵素化合物、重金屬腐殖質、, 有機溶劑等。 ※本分析計の保証範囲は、納入品に限定し、納入品の故障に起因する損害、事故の補償は致しかねます。予めご了承下さい。 ※本分析儀的保修范圍**于產品本身,制造商不應對由此造成的任何損害進行賠償。 AAK00014 201605/1000/ALJIM/M 米×英寸シリーズ日本液空PPB級微量氧分析儀在半導體痕量氧測試中的應用 ハーシェ型ガルバニ電池式微量酸素分析計 Hersch電池式微量氧分析儀 用途 ● 各種産業ガス中の酸素濃度管理 ?空気分離裝置の純度管理及び制御 型號,型號 MXN/Y MXN/S 原理打印機 哈謝型伽伐尼電池式Hersch Galvanic-cell 結構設計 面板組裝、桌上兼用型Panel-mounting/Bench-top 可測量樣品氣體 N2, Ar, He, H2, Ne, CO, CH4, C2H4, C2H6, C3H6, C3H8, etc. 測量范圍 0-10ppb~0-10000ppb之間1范圍任意設定(※精度保證在0~50ppb以上的范圍)0-10ppb to 0-10000ppb,one usre-settable range(accuracy guaranteed for a0~50ppb or high er range) 在0-0.1ppm到0-100ppm之間任意設定一個范圍(※精度保證在0~0.5ppm以上的范圍)0-0.1ppm到0-100ppm,one usre-settable range(accuracy guaranteed fora0~0.5ppm or high er range) *小檢測靈敏度低檢測限制日本液空PPB級微量氧分析儀在半導體痕量氧測試中的應用 0.5ppb(0-50ppb范圍)0.5ppb(0-50ppb range) 10ppb(0-0.5ppm范圍)10ppb(0-0.5ppm range) 可重復性(精度) ±2.0%F.S.以內within±2.0%F.S。 穩定性(零) ±5.0%F.S.以內/24h within±5.0%F.S./24h 測量氣體流量采樣流量 100 ml / min. 133 ml / min. 測量氣體壓力Sample Gas Pressure 49~294 kPa (G) 氣體入口接頭Sample Gas Inlet 6.35mm VCR公(male)6.35mm SWAGELOK 氣體出口接頭Sample Gas Outlet 6.35 mm SWAGELOK 記錄儀輸出Analog Output DC0-20/4-20mA(DIN5P)絕緣輸出max.750Ω DC 0-20 / 4-20mA (DIN 5P) max. load 750Ω (isolation) 外部接點外部接點 開路集電極(NPN)DC5~35V max.100mA open collector (NPN) DC 5 to 35V max. 100mA 警報觸點Alarm Contact 兩點two points 通信端口通信 RS232C (9P) 數據存儲器 1~60分鐘(1分鐘間隔)、1~24小時(1小時間隔)全500數據 1 to 60min. (1min. intervals), 1 to 24hr (1hr intervals) up to 500 data 電源/功耗/消費 AC 85~250V / 15W 環境溫度、濕度Ambient Temp./Humidity 10~35°C ± 3°C / 24hr, RH 20~80% 10~35°C ± 5°C / 24hr, RH 20~80% 尺寸、重量Dimensions/Weight 335(W)×425(D)×335(H) mm / 15 kg 更多日本液空PPB級微量氧分析儀在半導體痕量氧測試中的應用信息請直接致電埃登威上海公司13482246053
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